技术参数:
晶圆尺寸:6英寸、8英寸
适用材料:硅
适用工艺:POLY、SI3N4、TEOS等
适用领域:集成电路、半导体、硅基微型显示
适用材料:硅、碳化硅
设备特点:
先进的压力控制系统
高精度温度场控制技术
现进的颗粒控制技术
优良的薄膜均匀性
先进的图形化操作界面