设 备

化学气相沉积CVD

去胶设备

显定影设备

匀胶设备

特气设备

晶圆系列
  配 件
  管类备件
  阀类备件
  控制系统
  接头系列
  真空泵系列
  电子材料系列
  相关业务和服务
  设备翻新、改造及维修
  管道工程
  化学气相沉积CVD 您的位置:首 页 >> 产品中心 >> 化学气相沉积CVD  
立式CVD薄膜设备



技术参数:

晶圆尺寸:6英寸、8英寸

适用材料:硅

适用工艺:POLY、SI3N4、TEOS等

适用领域:集成电路、半导体、硅基微型显示

晶圆尺寸:6英寸、8英寸

适用材料:硅、碳化硅


设备特点:

先进的压力控制系统

高精度温度场控制技术

现进的颗粒控制技术

优良的薄膜均匀性

先进的图形化操作界面


COPYRIGHT 2016-2018上海微世半导体有限公司ALL RIGHTS RESERVED 备案许可证号:沪ICP备09052610号
技术支持:培文信息
友情链接: 山东联盛电子设备有限公司 上海旅思真空设备有限公司